の実機検証
実機試作の前に解析を行い、
有望な条件だけを実機で検証
企業名・製品名は非公開。実機評価中心だった開発フローにシミュレーションを組み込み、試作・評価・手戻りを削減した事例です。
ソフトウェアの提供だけで、 終わりではありません。
PIC Softwareは、解析・改善提案・開発・設計まで一貫して支援。
解析結果を実機検証・改善検討へつなげるところまで、専門技術者が伴走します。
解析後も、実機結果まで。
解析して終わりではなく、実機での検証結果とのすり合わせ、追加相談、条件検討まで継続してサポートします。
専任チームが、
一貫して担当。
受託解析・改善提案・開発・設計では、案件ごとの専任チームが継続して対応し、解析から改善まで一貫して支援します。
所定条件で返金保証。
受託解析・改善提案では、所定の条件を満たす場合に返金保証制度をご用意しています。
原則、毎週。
継続してすり合わせ。
進捗共有と解析方針の確認を継続的に実施。条件や方向性のズレを抑えながらプロジェクトを進めます。
多様なプロセス・装置に対応。
エッチング、CVD、スパッタ、表面活性化など、多様なプラズマプロセス・装置に対応します。
ソフトウェアライセンス
自社で解析・設計・条件検討を行いたいお客様向け
プラズマ・粒子挙動を3次元で解析できるシミュレーションソフトウェアを提供しています。研究開発から装置設計、プロセス条件の比較・最適化まで幅広く利用できます。
PIC-PLASMA 3D
プラズマ・粒子挙動解析ソフトウェア
受託解析・改善提案・開発・設計
解析から改善・設計まで任せたいお客様向け
お客様の装置・プロセスに対し、解析による課題の原因分析から改善提案、新規装置・プロセスの開発・設計までトータルに支援します。
受託解析
電磁場、電子軌道、プラズマ分布、粒子挙動、入射分布などを解析し、課題の原因を明確化します。
改善提案
解析結果をもとに、装置構造・プロセス条件の最適化や具体的な改善案をご提案します。
開発・設計
新しい装置・機構・解析手法の開発や設計を支援し、必要に応じてソフトウェア機能開発にも対応します。
PIC-PLASMA 3Dでできること
PIC-PLASMA 3Dは、装置内部のプラズマ・粒子挙動を3次元で解析し、 条件比較や課題の可視化を支援するシミュレーションソフトウェアです。 研究開発や装置設計の初期段階で有望条件を絞り込み、実機検証の効率化に役立ちます。
PIC / MCC解析
装置解析
可視化
軌道解析
粒子挙動評価
最適化検討
装置内部のプラズマ・粒子挙動を3次元で把握
電子・イオン・中性粒子の挙動やプラズマ分布を3次元で解析し、 装置内部で何が起きているかを可視化します。 実験だけでは把握しにくい分布の偏りや局所的な変化の確認に役立ちます。
CAD形状を用いて装置構造や条件の影響を検討
CAD形状を利用して、装置構造や電極配置、条件差による影響を解析できます。 実機試作の前段階で候補案を比較し、 有望な構成や条件を絞り込むことで開発効率の向上につながります。
研究開発・改善検討に必要な解析結果を整理
解析結果をもとに、課題の可視化、改善案の検討、実機検証条件の選定を進められます。 社内での検討用ソフトウェアとしても、受託解析・改善提案を進める基盤としても活用できます。
開発者・解析技術者が、
直接サポートします。
PIC Softwareでは、ソフトウェア開発と解析技術の中核を担う技術者が、 お客様の課題に直接関わります。ソフトウェアを提供して終わりではなく、 解析結果と実機検証のすり合わせまで一貫して支援します。
坂本 光輝
京都大学で研究用に開発していたプラズマシミュレーションコードが、 現在の「PIC-PLASMA 3D」の技術的な基盤となっています。
プラズマ・粒子シミュレーションの研究から産業分野での電子軌道解析、 解析ソフトウェア開発まで、一貫してシミュレーション技術に携わっています。
PIC/MCC・ソフトウェア開発
3次元PIC/MCC計算、粒子挙動、電場・磁場、CAD形状、可視化機能など、解析ソフトウェアの開発を行います。
プラズマ・プロセス解析
エッチング、CVD、スパッタ、表面活性化などを対象に、プラズマ分布や粒子挙動、条件差の影響を解析します。
改善提案・開発・設計・実機連携
解析結果をもとに装置構造やプロセス条件の改善案を検討し、実機結果との比較から次の設計・検証へつなげます。
シミュレーションや解析支援のご相談はこちら
装置・プロセスの課題やご要望をお聞かせください。最適な解析・支援方法をご提案します。